Dans le cadre de l’IRT Nanoelec, en collaboration avec le département optique du Leti (DOPT), nous travaillons sur l’optimisation des procédés de fabrication de guides d’onde Si aux pertes ultra-faibles. En introduisant un recuit sous hydrogène, nous avons réduit la rugosité du flanc des guides d’ondes Si (RMS=0.25 nm) et obtenu des pertes optiques record à l’échelle internationale (<1.1db/cm pour des guides STRIP et <0.3db/cm pour des guides RIB quelle que soit la largeur des guides mesurée à 1310 nm).
Collab. DOPT/Leti, IRT Nanoelec
