Nous développons depuis plusieurs decennies des procédés de nanoimpression de divers types, et sur divers substrats : semiconducteur, verre, feuillet flexible de polymère…
Nous maîtrisons des procédés NIL de type thermique ou UV sur des surfaces allant jusqu’à 200 mm de diamètre.
Nous développons des stratégies diverses au niveau des moules souples, copie du master, pour s’adapter aux matériaux et surfaces requises. Nous associons le procédé NIL avec un lift-off pour l’obtention de réseaux de nanostructures métalliques et garantissons ainsi un taux de défauts de remplissage proche de zéro.
