L’équipe lithographies avancées a pour objectifs le développement et l’optimisation de procédés lithographiques pour les nœuds technologiques avancés de la microélectronique et pour des applications diversifiées où des procédés de lithographies innovantes apportent de nouvelles fonctionnalités. L’ensemble des projets de recherche de l’équipe est articulé autour de deux grands axes : le patterning de polymères via diverses techniques, et pour diverses applications, et la métrologie, indispensable à la caractérisation des nano-objets réalisés. Les techniques de patterning de polymères regroupent l’auto-organisation de copolymères diblocs, la nanoimpression, et la formulation et structuration de nanocomposites. Dans tous les cas, nous avons pour objectif d’étudier d’un point de vue fondamental ces technologies pour les amener à un niveau de maturité le plus proche possible du milieu industriel, et de proposer des procédés annexes pour en améliorer les performances. En ce qui concerne la métrologie, après avoir étudié au plus haut niveau la technique de scattérométrie, l’équipe s’est orientée vers le développement d’une métrologie hybride, qui, par combinaison de données de mesure issues des techniques de métrologie existantes, permet d’améliorer la précision et la justesse de mesures dimensionnelles de nano-objets.
