Nous développons des procédés d’auto-organisation de copolymères à blocs en nous focalisant depuis des années sur les copolymères dits « high x » qui permettent d’atteindre de hautes résolutions. Nous étudions en particulier le couple PS/PDMS, mais aussi copolymères à base de PLA. Les procédés que nous développons ont pour objectif d’être compatibles avec un environnement microélectronique, avec par exemple une organisation sous vapeur de solvant, des procédés de gravure adaptés, la possibilité d’adresser des wafers 300 mm. Des réseaux de lignes de 14 nm de période sont ainsi obtenus.
